靶材的形状、纯度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和质量极大地影响膜层质量和溅射速率。优质的靶材可以保证良好的薄膜质量，延长Low-E产品的生命周期。更重要的是，它可以降低生产成本，提高生产效率。今天，我们分享靶材纯度和材料均匀性对大面积镀膜的影响。
溅射靶材纯度对大面积镀膜的影响溅射靶材的纯度对薄膜的性能有很大的影响。当洁净的表面玻璃进入高真空镀膜室时。如果在电场和磁场的作用下靶材纯度不够。那样的话，靶材中的杂质粒子会在溅射过程中附着在玻璃表面，导致某些位置的膜层不牢固，出现剥离现象。因此，靶材的纯度越高，薄膜的性能就越好。
铜靶材在对纯度为99.9%的铜溅射靶材的研究中，发现在制备Cu靶材时不可避免地会引入硫和铅。微量S的加入可以防止热加工时晶粒尺寸变大和微裂纹产生使表面粗糙。但是，当S的含量高于18ppm时，会再次出现微裂纹。随着S和Pb含量的增加，裂纹数量和电弧放电次数增加。因此，应尽量减少靶材中的杂质含量。减少溅射薄膜的污染源，提高薄膜的均匀性。
ALSi铝硅靶材溅射靶材制备工艺条件的控制对于热导率较差的靶材，例如硅铝溅射靶材，往往会因为靶材中的杂质而阻碍热传递。生产中使用的冷却水温度与镀膜线实际水温存在差异，导致使用过程中靶材开裂。一般来说，轻微的裂纹不会对镀膜生产产生很大的影响。但当靶材有明显裂纹时，电荷很容易集中在裂纹边缘，导致靶材表面异常放电。放电会导致落渣、成膜异常、产品报废增加。因此，在靶材制备和控制纯度的过程中，还要控制制备工艺条件。
ITO靶材溅射靶材均匀性对大面积镀膜的影响对于合金溅射靶材来说，往往存在材料分布不均的情况。如硅铝靶材中铝团聚，锌铝靶材中铝偏析（铝的原子质量比锌的原子质量65少27。铝在浇注后冷却过程中会上浮，导致铝含量一侧高另一侧低）。由于熔点低，硅铝靶中的团聚铝在溅射成膜时很容易掉渣，而在喷涂过程中加入的铝量是一定的。一部分铝团聚表明其他位置的铝含量较少，影响了硅靶的热导率和电导率。所以溅射速率不一致，成膜均匀性差，靶材破裂，靶材放电加剧。它还降低了成膜质量。靶材成分的偏析会影响溅射速率（薄膜均匀性）和薄膜成分。因此，除了控制靶材的纯度外，合金靶材的分布也很关键。
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