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刻蚀+MOCVD龙头，技术驱动行业领先。中微公司成立于年，主营业务为开发大型真空微观器件工艺设备，主要产品包括刻蚀设备和MOCVD。公司CCP刻蚀设备已批量应用于国内外一线客户从65nm到5nm集成电路制造产线、64层及层3DNAND产线，并已取得5nm及以下逻辑电路产线的重复订单；ICP刻蚀设备逐步成熟，已成功进入海内外十余家客户的晶圆产线。公司MOCVD设备持续在行业领先客户生产线上大规模投入量产，保持在行业内的领先地位。
一、刻蚀+MOCVD龙头，技术驱动对标前沿科技
1.1专注高端半导体设备
国内领先、世界排名前列的半导体高端设备制造商。公司自成立以来主要从事半导体设备的研发、生产和销售。公司以中国为基地，为全世界提供高端半导体微观加工设备。主营业务为开发大型真空微观器件工艺设备，主要产品是刻蚀设备和MOCVD。刻蚀机用于半导体制程，客户涵盖台积电、中芯国际、海力士、华力微、联华电子、长江存储等；MOCVD用于LED外延片制程，客户涵盖三安光电、华灿光电、乾照光电等。
技术更新迭代贯穿公司发展的各个阶段。公司年在张江高科科技园区启动运营，以瞄准世界科技前沿，坚持自主创新为理念，不断推出先进半导体设备产品。年，公司推出首台CCP刻蚀设备，年，首台MOCVD设备产品PrismoD-Blue研制成功，年开始改进PrimoAD-RIE并进入5nm生产线。公司产品在国际具有较高认可度，年5月，中微公司在全球晶圆制造设备供应商中排名第三，在十大芯片制造设备专业型供应商和专用芯片制造设备供应商中均位列第二。中微公司已经连续两年成为其中唯一一家中国本土的半导体设备公司。
内生外延，高端半导体制程新版图未来可期。目前，公司从三个维度对业务进行拓展布局规划：1）刻蚀设备领域作为核心竞争力，向薄膜、检测等关键设备领域扩展；2）扩展在泛半导体领域设备的应用，如布局显示、MEMS、功率器件、太阳能领域的关键设备；3）持续
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